專利冷態(tài)鍍膜設(shè)計(jì)使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品，在得到高分辨非晶鍍膜層同時(shí)避免樣品受到熱損傷，對(duì)熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合

分子泵超高分辨非晶層鍍膜，電鏡放大倍率可到300k也不會(huì)看到鍍膜顆粒，非常適合于現(xiàn)階段超高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡或雙束電鏡，電子探針等，如 fei nova, megglen, verios, helios等， 日立電鏡的su80000， su8200, s4800， 9000系列等， 日本電子 7600f, 7800f等， 蔡司的merlin, ultra, gemini, auriga系列等。

新一代鍍膜儀-ems q150r 型鍍膜儀（真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）采用最新技術(shù)研制而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數(shù)輸入，數(shù)種碳絲匹配，友好的用戶界面，帶給你不一般的操作感受！

自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程，避免樣品表面受損。操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換氣控制。在自動(dòng)模式下，可通過兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過程。可通過數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果?？膳鋫鋗tm-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果?？墒褂枚喾N金屬靶材：au， au/pd,，pt,，pt/pd，ag等，靶材更換快速方便。